西三旗金隅科技园位于北京市海淀区西三旗高科技走廊的核心地段，地理位置优越，毗邻中关村科技园和上地信息产业基地，浓厚的科技商务氛围让人印象深刻。周边交通便利，地铁8号线和13号线在此交汇，为园区提供了极佳的地理条件。园区与周边的金隅·智造工场、东升科技园三期实现“互联互通”，借助海淀区国内顶尖科研院所云集和北京国际科技创新中心核心区的独特优势，以软件研发应用为核心，重点培育人工智能、工业互联网、智能硬件、未来汽车、新能源和高端装备制造等六大产业，通过创业孵化、科技金融、检验检测认证等科技服务，打造科技创新基地，引领区域科创产业新风向。园区设计注重绿色、低密度、高品质，沿园区外侧围绕布置各楼栋，最大化园区中心景观绿地，打造现代科技园区的典范。一期与二期布局交相呼应，形成有机的整体。园区东侧布置大体量高层研发楼，树立新的城市形象。园区西侧由南向北依次布置中型体量研发楼与小型体量研发楼，与西侧金隅智造工场的低矮园区形成协调的高度关系。园区实行人车分流，将车流引入地下落客及停车，提升园区的安全性和便利性。
西三旗金隅科技园中心下沉广场的设计实现了建筑双首层设计，地面为人行到达办公大堂，下沉广场内为配套商业区域，背后为地下一层车库落客区。立面设计概念取自“古书竹简”和“时代脉冲”，塑造出简洁大气、灵动现代的科技园形象。底层立面起伏的风格处理与整座建筑相统一，共同形成一个有机的整体，强化建筑立面特色。这样的设计理念，不仅提升了园区的整体形象，也提高了园区的功能性，使其成为一个理想的科技创新基地。容，同时解决近地建筑造型的人性化尺度与高层建筑庞大尺度之间的矛盾，并采用模数化立面和单元式幕墙体系构建竖向线条。我将确保改写后的内容仍然表达与原文含义相同，同时避免产生歧义或误导。近地建筑的人性化尺度与高层建筑的庞大尺度之间的矛盾一直是城市规划中一个重要的问题。为了解决这个问题，我们提出了一种新的设计理念，即采用模数化立面，通过单元式幕墙体系构建竖向线条，这样可以实现人性化尺度和高层建筑庞大尺度的和谐共存。单元式幕墙体系具有灵活性和可变性，它可以随意开启，提升通风效率，同时不影响立面效果。这种设计理念在不影响立面的同时，可以根据需要随时调整开启程度，既符合人性化尺度又能够满足高层建筑的庞大尺度需求。我们还将进行下沉式的景观设计，将地下空间与地上绿化融为一体，构建立体园林式办公园区。这种设计不仅为办公人员提供了舒适的办公环境，同时也为周边城市人群提供了绿色城市花园。在设计中，我们将以宜人的尺度与周边片区自然连接，友好明确极具辨识度的城市界面。这样的设计理念不仅能够解决近地建筑人性化尺度和高层建筑庞大尺度之间的矛盾，还能为周边城市人群提供更美好的生活环境。同时，这种设计理念还具有极强的辨识度，能够使我们的办公园区在周边片区中脱颖而出。